- 花蓮外海3日上午發生規模7.2大地震，臺積電昨晚間發聲明，震后10小時內，晶圓廠設備的復原率已超過70％，雖少數設備受損并影響部分產線生產，但主要機臺包含所有極紫外（EUV）光刻設備皆無受損。對此，財經專家黃世聰表示，臺積電晶圓廠的機臺，使用的是美國航天等級、連美軍都在用的阻尼器，且下方還有抗震減壓的機臺，把地震影響降到最小，且臺積電工程師訓練有素，只要發生地震、聽到公司手機響起臺積電之歌的鈴聲，就知道出大事、要趕回公司。臺積電產能牽動全球科技業，強震后外界關注影響。臺積電昨晚發布聲明，在3日地震發生后僅
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臺積電 抗震神器 EUV 強震
- 昨日花蓮發生規模7.2地震，外媒高度關注是否對中國臺灣護國神山臺積電造成影響，臺積電表示，部分廠區的少數設備受損，但所有極紫外（EUV）光刻設備等主要機臺皆無受損?！度A爾街日報》撰文指出，臺積電坐落在世界上最大地震熱點之一的中國臺灣，在昨日強震后將受到考驗。報導指出，在此次地震中臺積電是幸運的，因為其主要設施地點位在北、中、南部，與東部的震央距離相對較遠，這次臺積電新竹、龍潭和竹南等科學園區的最大震度為5級 ，臺中和臺南科學園區的最大震度4級。雖然臺積電工廠建筑物完好無損，但用于制造半導體的設備和材料非常
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- 3日早上7點58分左右，中國臺灣花蓮發生規模7.2地震，擾亂臺積電在內的公司營運，臺積電對此表示，雖然部分廠區的少數設備受損并影響部分產線生產，但主要機臺包含所有極紫外（EUV）光刻設備皆無受損。許多外媒則示警，這凸顯了臺積電和全球芯片供應鏈處在地震的風險與威脅之中。 根據《商業內幕》報導，這場7.2強震凸顯了全球芯片供應鏈和臺積電的脆弱性，臺積電是世界上最大的芯片制造商，全球大約90%的最先進處理器芯片都是臺積電生產，而且中國臺灣也是小型芯片生產商的所在地。報導示警，如果大地震能夠擾亂臺積電，那么更具破
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半導體 芯片供應鏈 臺積電 EUV
- 光刻機一直是半導體領域的一個熱門話題。從早期的深紫外光刻機（DUV）起步，其穩定可靠的性能為半導體產業的發展奠定了堅實基礎；再到后來的極紫外光刻機（EUV）以其獨特的極紫外光源和更短的波長，成功將光刻精度推向了新的高度；再到如今的高數值孔徑光刻機（High-NA）正式登上歷史舞臺，進一步提升了光刻的精度和效率，為制造更小、更精密的芯片提供了可能。ASML 官網顯示，其組裝了兩個 TWINSCAN EXE:5000 高數值孔徑光刻系統。其中一個由 ASM 與 imec 合作開發，將于 2024 年安裝在 A
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High-NA EUV
- 3 月 27 日消息，據荷蘭媒體 Bits&Chips 報道，ASML 官方確認新款 0.33NA EUV 光刻機 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機的技術，運行效率得以提升。根據IT之家之前報道，NXE:3800E 光刻機已于本月完成安裝，可實現 195 片晶圓的每小時吞吐量，相較以往機型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技術 High-NA（高數值孔徑） EUV 采用了更寬的光錐，這意味著其在 EUV 反射鏡上的撞擊角度更寬，會導致影響晶圓吞吐量的光損失。
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ASM NXE:3800E EUV 光刻機 High-NA
- 據路透社報道，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個名為“貝多芬計劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領導，以確保ASML繼續在荷蘭發展。消息還稱，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言，ASML發言人對媒體稱他們在考慮公司的未來，但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭？憑借先天的地理位置及海港內陸網絡，荷蘭一直為歐洲的交通樞紐，國家經濟高度依賴國際貿易，2022年最新出口額占全國GDP之比超
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- 據韓媒報道，韓國芯片巨頭SK海力士準備打破美國對華極紫外（EUV）光刻機出口相關限制，對其中國半導體工廠進行技術提升改造。這被外界解讀為，隨著半導體市場的復蘇以及中國高性能半導體制造能力提升，一些韓國芯片企業準備采取一切可以使用的方法來提高在華工廠制造工藝水平。韓國《首爾經濟》13日的報道援引韓國業內人士的話稱，SK海力士計劃今年將其中國無錫工廠的部分動態隨機存取存儲器（DRAM）生產設備提升至第四代10納米工藝。對于“無錫工廠將技術升級”的消息，SK海力士方面表示“無法確認工廠的具體運營計劃”。無錫工廠
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- 英特爾（intel）近日宣布，已經接收市場首套具有0.55數值孔徑（High-NA）的ASML極紫外（EUV）光刻機，預計在未來兩到三年內用于 intel 18A 工藝技術之后的制程節點。 相較之下，臺積電則采取更加謹慎的策略，業界預計臺積電可能要到A1.4制程，或者是2030年之后才會采用High-NA EUV光刻機。業界指出，至少在初期，High-NA EUV 的成本可能高于 Low-NA
EUV，這也是臺積電暫時觀望的原因，臺積電更傾向于采用成本更低的成熟技術，以確保產品競爭力。Hig
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- 1月2日，全球光刻機龍頭ASML在官網發布聲明稱，荷蘭政府最近撤銷了此前頒發給其2023年發貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻機的部分出口許可證，這將對ASML在中國內地的個別客戶產生影響。在聲明中，ASML表示：“在新的出口管制條例下，今年（指2023年）年底前ASML仍能履行已簽訂的合同，發運這些光刻設備?？蛻粢惨阎こ隹诠苤茥l例所帶來的限制，即自2024年1月1日起，ASML將基本不會獲得向中國客戶發運這些設備的出口許可證?！鳖A計此次出口許可證撤銷及最新的美國出口管制限制不會對公司2023
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- 半導體設備制造商ASML表示，荷蘭政府禁止其向中國出口部分工具。ASML表示，荷蘭政府最近部分撤銷了其NXT：2050i和NXT：2100i光刻系統在2023年裝運的許可證。在撤銷船舶許可證之前，美國政府在10月份加強了對中國先進半導體和芯片制造工具的出口管制，并在此前的規定基礎上進行了進一步收緊。荷蘭公司ASML制造了制造世界上最先進芯片所需的最重要機器之一。美國的芯片限制使包括ASML在內的公司爭先恐后地弄清楚這些規則在實踐中的含義。ASML公司該公司表示，荷蘭政府禁止其制造最先進半導體的關鍵機器向中
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- 12月21日，荷蘭光刻機巨頭ASML通過社交媒體宣布，其首套高數值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻機正從荷蘭Veldhoven總部開始裝車發貨，將向英特爾進行交付。數值孔徑（NA）是光刻機光學系統的重要指標，直接決定了光刻的實際分辨率和最高能達到的工藝節點。
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- 周二，荷蘭科技巨頭ASML和三星（Samsung）簽署了一項價值約7億歐元的協議，將在韓國建設一家半導體研究廠。與此同時，韓國總統尹錫悅（Yoon Suk Yeol）結束了這次以科技為重點的訪問的第一天。尹錫悅是第一位到訪ASML高度安全的“無塵室”的外國領導人，這次到訪荷蘭的目的是在這兩個全球半導體大國之間結成“芯片聯盟”。他參觀了ASML的城市規模設施，該公司制造先進的機器來制造半導體芯片，為從智能手機到汽車的一切提供動力。ASML和三星后來同意“未來共同”投資該設施，該設施將“使用下一代EUV（極紫
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- 據IBM官網消息，美國紐約州州長宣布與IBM、美光以及其他行業參與者合作，投資100億美元在紐約州 Albany NanoTech Complex 建設下一代 High-NA EUV 半導體研發中心。IBM稱，這將是北美第一個也是唯一一個擁有高數值孔徑極紫外光刻(高NA EUV)系統的公共研發中心，可為開發和生產小于2nm的節點芯片鋪平道路。
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- 11月6日消息，日本佳能一直在投資納米壓?。∟ano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術，并計劃將新型芯片制造設備的價格定在阿斯麥最好光刻機的很小一部分，從而在光刻機領域取得進展。納米壓印技術是極紫外光刻（EUV）技術的低成本替代品。佳能首席執行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，該公司最新的納米壓印技術將為小型芯片制造商生產先進芯片開辟出一條道路?！斑@款產品的價格將比阿斯麥的EUV少一位數，”現年88歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔任佳能總裁，上一次退
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euv介紹
在半導體行業，EUV一般指EUV光刻，即極紫外光刻。
極紫外光刻（英語：Extreme ultra-violet，也稱EUV或EUVL）是一種使用極紫外（EUV）波長的光刻技術。
EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源，可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術擴展到32nm以下的特征尺寸。
根據瑞利公式（分辨率=k1·λ/NA），這么短的波長可以提供極高 [
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